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第35章 人选2（第1页）

在龙华大学的校园里，赵强和张华，张丽，以及一群满怀热情的学生们，正紧张地准备着星图公司举办的光刻机研发计划的选拔面试。

星图公司，作为国内领先的科技企业，其光刻机计划吸引了众多有志于科技研发的青年才俊。

面试室内，气氛紧张而有序，星图公司的面试官们正认真地评估着每一位申请者的专业能力和潜力。

赵强和张华，王丽凭借着扎实的学术背景和对光刻技术的深刻理解，赢得了面试官的青睐，他们对光刻机的未来充满了无限憧憬。

面试官李博士清了清嗓子，开始发问：“首先，我想了解一下你们对光刻技术的基本原理的理解。

请解释一下，光刻技术在半导体制造中的作用是什么？”

赵强首先回答：“光刻技术，简单来说，是通过光刻胶在半导体晶片上形成图案的过程，它是集成电路制造中的关键步骤。

通过精确控制光线的照射，可以将设计好的电路图案‘印’在晶片上，实现电路的微缩化和集成化。”

张华接着补充：“而且，随着技术的发展，光刻技术的精度和效率不断提高，这对于推动集成电路的性能提升和成本降低至关重要。”

面试官李博士满意地点点头，继续提问：“很好，你们对光刻技术的理解很到位。

那么，接下来的问题稍微有些难度。

请你们谈谈，目前光刻技术面临的最大挑战是什么？以及你们认为未来的发展方向是什么？”

王丽沉思片刻，回答道：“我认为，当前光刻技术面临的最大挑战之一是光刻分辨率的提升。

随着集成电路的集成度越来越高，如何实现更精细的光刻图案，以满足更小的电路设计规则，是一个亟待解决的问题。

此外，光刻过程中的曝光精度和重复性也是关键挑战。”

张华接过话头：“对于未来的发展方向，我认为极紫外光刻（euv）技术是目前最被看好的解决方案之一。

euv技术使用135纳米波长的光，可以实现更精细的图案化，这将推动光刻技术迈入新的阶段。

同时，纳米压印光刻等新兴技术也是未来可能的方向。”

赵强补充道：“除了技术上的创新，我认为，提高光刻机的生产效率和降低成本也是未来研究的重点。

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